SCANcube IV 14 | |||
Apertur | 14 mm | ||
Winkelgeber Galvanometerscanner | analoger Positionsdetektor | ||
Optik | |||
Wellenlängenbereiche (Standard) |
Standard-Coatings für alle gängigen Lasersysteme: YAG- & Faserlaser, Laser für den grünen Wellenlängenbereich, UV Laser, CO2 Laser Zusätzlich sind zahlreiche Mehrfach- und Breitbandcoatings im Portfolio |
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Max. Laserleistung (Standardsysteme, 100% Betrieb) |
440 W @ 1064 nm | ||
Typischer Auslenkwinkel | ±0,35 rad (opt.) | ||
Bildfeldgröße (1064 nm, f = 160 mm) |
95 mm x 95 mm | ||
Fiber adapter | nein | ||
Abweichung des Auslenkwinkels | < 5 mrad | ||
Abweichung von der Nullposition | < 5 mrad | ||
Dynamic | |||
Anzahl installierter Tunings | 1 | ||
Typisches Tuning | Fast-Vector-Tuning | ||
Schleppverzug | 0,15 ms | ||
Beschriftungsgeschwindigkeit (f = 160 mm) |
2,5 m/s | ||
Positioniergeschwindigkeit (f = 160 mm) |
14,4 m/s | ||
Schreibgeschwindigkeit (F-Theta-Objektiv, f = 160 mm) |
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hohe Schreibqualität | 540 cps | ||
gute Schreibqualität | 750 cps | ||
Sprungantwort (ausgeregelt auf 1/1000 Vollausschlag) |
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1% Vollausschlag | 0,35 ms | ||
10% Vollausschlag | 1,20 ms | ||
Genauigkeit | |||
Wiederholgenauigkeit (RMS) |
< 2 µrad | ||
Positionsauflösung (max.)* |
16 bit * | ||
Nichtlinearität | < 0,7 mrad / 44° | ||
Temperaturdrift | |||
Offset | < 20 µrad/K | ||
Gain | < 20 ppm/K | ||
8 hour drift (after 30 min warm-up) |
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Offset | < 50 µrad | ||
Gain | < 50 ppm | ||
24 hour drift (after 3 h warm-up) |
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Offset | |||
Gain | |||
* 16 Bit: bezogen auf den vollen Winkelbereich (z.B. Positionsauflösung 11 µrad für Winkelbereich ±0,36 rad)
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Electrics / Control | |||
Regelung Galvanometerscanner | digitale Reglerkarte | ||
Ansteuerschnittstelle (Alternativen) |
digital SL2-100, digital XY2-100 Standard |
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Erweiterte Diagnosemöglichkeiten | ja (optional) | ||
Versorgungsspannung | 30 V DC, jeweils max. 3 A | ||
Mechanik | |||
Scan-Achsen | 2-Achsen-System | ||
Gehäusevarianten | Standard: Scan-Kopf | ||
Steckerpositionen | Strahleintrittsseite | ||
Größe (L x B x H) (Standardgehäuse) |
(135 x 99,5 x 118,5) mm3 | ||
Gewicht ohne Objektiv (Standardgehäuse) |
2,7 kg | ||
Strahlversatz | 16,42 mm | ||
Sonstige Ausstattung | |||
Wasserkühlung | nein | ||
Luftkühlung | nein | ||
Optionen | Objektive mit optimierten Montagesätzen | ||
Sonstige Spezifikationen | |||
Größe (L x B x H) (Standardgehäuse) |
(135 x 99,5 x 118,5) mm3 | ||
Gewicht ohne Objektiv (Standardgehäuse) |
2,7 kg | ||
Strahlversatz | 16,42 mm | ||
Arbeitstemperatur | 25 °C ± 10 °C | ||
Abweichung des Auslenkwinkels | < 5 mrad | ||
Abweichung von der Nullposition | < 5 mrad | ||
Skew | |||
Sprungantwort (100% Vollausschlag) | |||
Typical Optical Configurations | |||
Applikatonen | |||
Typische Anwendungen |
Beschriftungsanwendungen, Materialbearbeitung in der Halbleiterindustrie, Mikrostrukturierung, Processing on the fly |
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